El silicio polimorfo nanoestructurado es el material que ha llamado la atencion de los investigadores por sus buenas caracteristicas opticas y electronicas. En esta investigacion nos centramos en la sintesis del silicio polimorfo nanoestructurado utilizando la tecnica de deposito quimico en fase vapor asistido por plasma, usando como gas precursor del silicio, diclorosilano. Este gas nos proporciono la presencia del ion cloruro, siendo esto una ventaja durante el proceso de crecimiento y en la estructura final de la pelicula donde se pudo corroborar la formacion de enlaces mas estables en la superficie de los nanocristales, con los que se espera se mejore la estabilidad de las peliculas con la exposicion al luz solar. Utilizando tecnicas de caracterizacion como microscopia electronica de transmision de alta resolucion y espectroscopia Raman, se determino el caracter nanoestructurado de las peliculas donde la matriz siempre fue una matriz de silicio amorfo. Finalmente, combinando las tecnicas de espectroscopia UV-vis y elipsometria espectroscopica se determinaron las propiedades opto-electronicas de las peliculas mostrando excelentes propiedades para aplicaciones fotovoltaicas."