Este estudo teve como objetivo a obtencao e caracterizacao de filmes finos de diamante nano/ultrananocristalinos dopados com boro visando a aplicacao deste material num futuro proximo na area eletroquimica, utilizando os eletrodos de nanodiamante dopados na degradacao de compostos inorganicos. Os filmes foram obtidos pela tecnica HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition), utilizando como fonte de dopante uma solucao de oxido de boro em metanol. A principio, na primeira serie de experimentos variaram-se os niveis de dopagem com boro em 2.000, 5.000, 10.000, 20.000 e 30.000 ppm e tempos de crescimento do filme em 6, 10 e 16 h. Posteriormente, na segunda serie de experimentos variou-se o percentual de argonio em relacao ao hidrogenio na mistura gasosa, em 50, 60, 70, 80 e 85 %. Foram feitas analises morfologicas, estruturais e eletroquimicas, visando estudos fundamentais dos filmes obtidos."