Doktorarbeit / Dissertation aus dem Jahr 2008 im Fachbereich Elektrotechnik, Note: 2, Technische Universitt Chemnitz, Sprache: Deutsch, Abstract: Die Arbeit beschreibt die Entwicklung und Evaluierung zweier neuartiger Technologien (Maske und Spacer) zur Erzeugung von Airgap-Strukturen in Mehrebenenmetallisierungen integrierter Schaltkreise. Ausgangspunkt der Arbeit bildet die Aufarbeitung der Thematik der low-k Materialien sowie der aus der Literatur bekannten Airgap-Anstze. Es werden die beiden entwickelten Konzepte zur Airgap-Erzeugung prinzipiell beschrieben und hinsichtlich der definierten Zielstellungen (konventionelle Prozessierung, Skalierbarkeit, selektiver Eintrag) sowie vergleichend zu alternativen Airgap-Anstzen diskutiert. Im Fortgang werden Prparationen beider Technologien vorgestellt und deren Machbarkeit nachgewiesen. Die Erprobung und Optimierung einzelner Prozesse werden dokumentiert. Anhand der funktionsbedingten Anforderungen an Materialien und Grenzflchen werden ausgewhlte Integrationsaspekte untersucht. Den Schwerpunkt bildet dabei der Einfluss von Fluorwasserstoffsure auf elektrisch leitfhige und dielektrische Diffusionsbarrieren, Kupfer sowie deren Verbund. Es werden Mglichkeiten gezeigt, unerwnschte Wechselwirkungen zu minimieren und die Zuverlssigkeit der defektfreien Airgap-Erzeugung zu steigern. Die Arbeit beinhaltet zudem die Charakterisierung von Airgap-Strukturen entsprechend beider Anstze hinsichtlich ihres elektrischen, thermischen und mechanischen Verhaltens fr variierte Geometrien und Materialeigenschaften. Es werden FEM Simulationen genutzt, um Messwerte zu verifizieren, Extrapolationen bei variierten Eingabedaten durchzufhren oder nicht messbare Gr en zu extrahieren.