Un estudio mediante tecnicas de analisis de superficies dos sistemas de interes nanotecnologico: Peliculas ultradelgadas de Fluoruro de aluminio y Silicio nanoporoso. El primero es un aislador, tecnologicamente util como resina electrolitografica, que permite la fabricacion de peliculas de espesor nanometrico. Durante los procedimientos usuales de fabricacion de dispositivos "top-down" el bombardeo ionico y electronico que se utiliza para producir patrones, puede afectar la resina debido a la produccion de electrones secundarios. Por otra parte el silicio nanoporoso es un material compuesto de nanohilos de Silicio. Los interesantes fenomenos de confinamiento cuantico que en el se observan lo convierten en una promesa en el campo de la optoelectronica. Ademas su integracion en componentes micro y nanoelectronicos mediante el paradigma "bottom-up" de fabricacion motiva el estudio de sus popiedades de emision fotonica y electronica."