A nitreta o i nica um dos processos de revestimento superficial dos mais importantes, mas apresenta alguns problemas inerentes, principalmente, na nitreta o de pe as com geometria complexa. Nos ltimos quatro anos surgiu uma nova t cnica de nitreta o a plasma, denominada de ASPN (Active Screen Plasma Nitriding), na qual as amostras s o envolvidas por uma tela polarizada catodicamente e com ela poss vel obter uma camada nitretada, perfeitamente uniforme, independente da forma da amostra. O nosso trabalho baseia-se no desenvolvimento, no mbito do LabPlasma, de uma nova t cnica de nitreta o em plasma, denominada nitreta o em gaiola cat dica (NGC) - dep sito de patente PI 0603213-3 - derivada da ASPN, mas que utiliza o efeito de c todo oco para aumentar a efici ncia do processo de nitreta o. Esta t cnica apresentou bastante efic cia na nitreta o de v rios tipos de a os, nas mais variadas condi es de tratamento, proporcionando a obten o de camadas mais espessas e de maior dureza, quando comparada com a ASPN e com a nitreta o i nica convencional, al m de eliminar problemas de irregularidades associados t cnica convencional.