Cienkowarstwowe organiczne przyrządy plprzewodnikowe, takie jak organiczne diody elektroluminescencyjne (OLED) i organiczne ogniwa fotowoltaiczne, można wytwarzac na rżne sposoby, w tym metodą fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD). PVD jest procesem osadzania cienkich warstw o precyzyjnie kontrolowanej grubosci i skladzie materialu na podlozu w systemie przniowym. Do ogrzewania materialw źrdlowych do temperatury wystarczającej do odparowania lub sublimacji powszechnie używa się tygli oporowo ogrzewanych, zwanych ldkami. Tygle te zazwyczaj posiadają pojedynczy otwr, ktry powoduje powstanie stożkowego strumienia pary do powlekania zarwno podloża, jak i pobliskiego czujnika grubości i szybkości. W tym badaniu, nowa konstrukcja lodzi zawierająca podwjny strumień pary, gdzie jeden strumień pary jest skierowany w kierunku czujnika, a drugi w kierunku podloża w orientacji ortogonalnej, zostaly zbadane. Konstrukcja ta ma zapewnic szczeglnie przydatne wlaściwości przy wytwarzaniu organicznych cienkich warstw o zlożonym skladzie, zawierających wiele skladnikw. Ma ona rwnież na celu zmniejszenie strat materialowych poprzez skrcenie odleglości źrdla od podloża.